Please use this identifier to cite or link to this item: https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/6354
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorІвасенко, М. В.uk
dc.date.accessioned2017-05-19T12:23:55Z-
dc.date.available2017-05-19T12:23:55Z-
dc.date.issued2010
dc.identifier.citationІвасенко М. В. Особливості технологічних процесів нанесення металевого покриття на текстильні матеріали способом іонно-плазмового вакуумного напилювання [Текст] / М. В. Івасенко // Вісник Київського національного університету технологій та дизайну. - 2010. - № 3 (53). - C. 210-215.uk
dc.identifier.issn1813-6796
dc.identifier.urihttps://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/6354-
dc.description.abstractВ статті розглянуто процеси іонно-плазмового напилювання металів на текстильні матеріали. Визначено особливості технологічних режимів при напилюванні в вакуумних магнетронних установках.uk
dc.description.abstractВ статье рассмотрены процессы ионно-плазменного напыления металлов на текстильные материалы. Установлены особенности технологических режимов при напылении в вакуумных магнетронных установках.ru
dc.description.abstractThe article describes the processes of ion-plasma deposition of metals on textile materials. The main features of technological regimes during deposition in vacuum magnetron installations.en
dc.languageuk
dc.titleОсобливості технологічних процесів нанесення металевого покриття на текстильні матеріали способом іонно-плазмового вакуумного напилюванняuk
dc.typeArticle
local.contributor.altauthorIvasenko, M. V.en
local.contributor.altauthorИвасенко, М. В.ru
local.subject.sectionМатеріалознавство, легка та текстильна промисловістьuk
local.sourceВісник Київського національного університету технологій та дизайнуuk
local.source.number№ 3 (53)uk
local.subject.method0
Appears in Collections:Наукові публікації (статті)
Вісник КНУТД
Кафедра технології моди (ТМ)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
V53_P210-215.pdf596,79 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.